在本示例中模擬了衰減相移掩模。 該掩模將線/空間圖案成像到光刻膠中。 掩模的單元格如下圖所示掩模的基板被具有兩個開口的吸收材料所覆蓋。在其中一個開口的下方位于相移區(qū)域。由于這個例子是所謂的一維掩模(線/空間模式)在xy平面中有一個2D仿真域。在源文件中設(shè)置3DTo2D yes標簽以執(zhí)行用戶自定義傳入方向的自動轉(zhuǎn)換。啟用此標記后就可以描述傳入?yún)^(qū)域就好像光軸與Z軸重合一樣。這允許統(tǒng)一設(shè)置2D和3D的掩模模擬項目。由于光線從基板下方進入光線的傳輸方向為Z方向。相位分布如下圖所示相移區(qū)域的影響清晰可見導(dǎo)致開口上方光束的180度相位差。同時光場的S和P分量也顯示出相位差